製品詳細

(株)日本レーザー

パルスファイバーレーザー redENERGY G4

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MOPA方式採用
工業用途に最適な高い柔軟性&高性能

MOPA(Master oscillator power amplifier)方式採用
工業用途に最適な高い柔軟性&高性能

•繰り返し周波数 CW to 1MHz
•産業用途に最適: 用途に合わせて3タイプから選択
•1062 ± 3 nm
•最大繰返し周波数 1MHz
•パルス幅可変

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(株)日本レーザー

【所在地】〒169-0051東京都新宿区西早稲田2-14-1

【電話番号】03-5285-0861 【FAX番号】03-5285-0860

【URL】https://www.japanlaser.co.jp/

製品選定でお悩みの際は、日本レーザーまでご連絡ください。 03-5285-0861

主な特長
  • 小型:冷却システム内蔵
  • プラグ&プレイ:安定性の高い光学系
  • 高信頼性:標準3年保証
  • 複数のインターフェースで高い柔軟性と優れたパルス操作性:I/O, RS-232, Ethernet
  • ビットマップマーキング対応
  • ステータス監視&セーフシャットダウン
  • アナログパワーコントロール入力、パルスゲート&パルストリガー
  • 高速マーキング

redENERGY G4 シリーズの概要
redENERGY G4は、柔軟性が高く高性能のファイバレーザーです。SPI社の直接変調半導体シードレーザー、GTWaveアンプ、PulseTuneコントロール技術を用いて、小型化と効率化を実現しています。任意のマーキングまたはマイクロマシニングに合わせて、さまざまなビーム品品質・形状を提供いたします。
ビーム伝搬システムに採用している ILLK システムは、IP54規格ビーム伝搬ケーブルを用いたプラグ&プレイシステムです。ビーム径は指定できます。
redENERGY G4は、3年間保証の信頼性にも優れた製品です。またEthernetにより、任意のコントロール・機器接続にも対応できます。

MOPA方式について
Q-スイッチを用いた一般のパルスレーザーは、繰り返し周波数の上昇に応じてピーク出力が減少し、そのために高速の加工時において最適加工出力を得られない場合があります。
MOPA(Master oscillator power amplifier)方式とは、高速変調制御可能な半導体レーザーを種光とし、高出力のパワーアンプで増幅する方式です。
この方式によって、高繰り返し時にも充分なピーク出力が得られ、繰り返し周波数に関わらず最適な加工出力が常に得られます。さらに、熱レンズ効果が非常に小さいというファイバーレーザーの特徴によって、優れたビーム位置安定性も得られます。
MOPA 概念図

タイプ

S-type, 10~50 W

S-typeは特にビーム品質が高く、パワー密度の高い良好なフォーカススポットが得られます。
主な仕様 応用例 応用分野
  • 10W to 50W
  • ビーム品質 <1.3 M2
  • 最大ピークパワー 9kW
  • 最大パルスエネルギー 0.7mJ
  • 繰返し周波数 CW to 1MHz
  • 微細彫刻
  • ドリル加工
  • マイクロマシング
  • 精密切削
  • スクライビング
  • エレクトロニクス
  • 太陽電池/エネルギー
  • 半導体
  • 一般産業
  • 宝飾

L-type, 12~20 W

L-typeは産業一般に応用できる汎用型のモデルです。
主な仕様 応用例 応用分野
  • 12W to 20W
  • ビーム品質 1.6~2.0 M2
  • 最大ピークパワー 12kW
  • 最大パルスエネルギー 0.85mJ
  • 繰返し周波数 CW to 1MHz
  • マーキング一般
  • 金属加工
  • プラスチック加工
  • 24時間体制マーキング
  • 薄膜パターニング
  • 自動車
  • 家庭用製品
  • エレクトロニクス
  • 製造一般

H-type, 25~70 W

H-typeは有効スポットサイズが大きく、さまざまな加工用途に応用できます。
主な仕様 応用例 応用分野
  • 25W to 70W
  • ビーム品質 2.5~3.5 M2
  • 最大ピークパワー 20kW
  • 最大パルスエネルギー 1.25mJ
  • 繰返し周波数 CW to 1MHz
  • マーキング一般
  • 深彫刻
  • プラスチックマーキング
  • 金属切削
  • ドリル加工
  • 宝石/贈答品
  • エネルギー
  • 医療
  • 動物のタグ付け

◆日本レーザーの製品ラインナップ
パルスレーザー
パルスファイバーレーザー redENERGY G4
MOPA(Master oscillator power amplifier)方式採用
工業用途に最適な高い柔軟性&高性能
•繰り返し周波数 CW to 1MHz
•産業用途に最適: 用途に合わせて3タイプから選択
•1062 ± 3 nm
•最大繰返し周波数 1MHz
•パルス幅可変
>詳細はこちら
高繰返しLD励起パルス固体レーザー
(IMPACTシリーズ)
Xiton Photonics
加工用途に最適!!
•高繰返し
•短パルス
•低メンテナンス設計
•密閉ハウジング
>詳細はこちら
> その他、用途に合わせた製品を取り揃えております。


【パターン・ジェネレータ】
R&D用マスクレス・リソグラフィ装置 最上位モデル“DWL66+”
マスクレス・リソグラフィ装置 フラッグシップ・モデル“DWL2000/4000”
高速/高精細レーザー直接描画装置“VPG200/400”
卓上型マスクレス・リソグラフィ装置“μPG501/μPG101”
【インプリント】
UV式mini ナノインプリント装置 EUN-4200
熱式miniインプリント装置 EHN-3250
【粒度分布計測】
レーザー回折式 粒度分布測定(乾式・湿式) HELOS&RODOS

【ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション例〉】
半導体分野 顕微鏡検査(採用例1) 顕微鏡検査(採用例2)
顕微鏡アプリケーション向け製品 ビームシャッター 計量学 オートフォーカス装置
ファイバー光スイッチ/マルチプレクサ
ピエゾ駆動光学マウント
ピエゾ駆動ステージ
NanoX 高速ポジショナ
スタックアクチュエータ

【SECOPTA社 LIBSシステム】
SECOPTA社 LIBSシステム(インライン向け)
SECOPTA社 LIBSシステム(ラボ用卓上タイプ)
SECOPTA社 LIBSシステム(超高速インライン向け)

【Newport社 電動ステージ】
電動直進ステージ(自動直進ステージ)
電動回転ステージ(自動回転ステージ)
電動垂直ステージ(自動垂直ステージ)
ナノポジショニング・リニアステージ(ピエゾ駆動直進ステージ)
ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム