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製品詳細

（株）日本レーザー

SECOPTA社 LIBSシステム

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品質保証やプロセス検査・管理に
最適なLIBSによるインライン計測

LIBS計測（レーザー誘起ブレークダウン分光）システム

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（株）日本レーザー

【所在地】〒169-0051東京都新宿区西早稲田２－１４－１

【電話番号】03-5285-0861 【FAX番号】03-5285-0860

【URL】https://www.japanlaser.co.jp/

製品選定でお悩みの際は、日本レーザーまでご連絡ください。　03-5285-0861

ドイツ・ベルリンに本社をおくSECOPTA GmbH は、産業分野における分析にフォーカスし、LIBSを応用したレーザー分光による分析装置を製造しています。同社の堅牢なインライン計測技術は、品質保証、混合物検査、プロセス管理などに応用されます。また高速センサ採用で、特に一次原料・二次原料を扱うアプリケーションにおいて、成分選別や組成評価を効率的に行えます。

◆日本レーザーの製品ラインナップ
LIBS計測（レーザー誘起ブレークダウン分光）システム
LIBSシステム（インライン向け）
ファイバー型のLIBS（レーザー誘起ブレークダウン分光）システム
測定箇所の成分組成を高速定量分析
・全ファイバーデリバリ型なので組み込みに最適
・組み込みをサポートするI/O、ソフトウェア完備
・インライン・オンサイト・in situでの多元素定量分析
・高速・高繰返し測定
・僅か数ミリ秒で多元素の定量分析
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LIBSシステム（ラボ用卓上タイプ）
ラボ用の卓上LIBSスキャンシステム
2次元・3次元の組成マッピングが可能
・特別な前処理なしで多元素の高速測定
・カメラ内蔵で実像と組成マップの重ね合わせ
・高い方位分解能
・ビギナーからエキスパートまで対応したソフトウェア
・レーザー安全性に配慮した設計
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LIBSシステム（超高速インライン向け）
完全インライン向けLIBSシステム
20kHzの超高繰返し測定
（カスタムで100kHzまで可）
・IP63クラスの防塵ハウジング
・ダストから光学系を保護するパージエア機構
・高信頼性のMOPAレーザー搭載
・高速データ処理・解析
・TCP/IP経由のデータ転送およびリモート制御
・高速フォーカス追従（MopaLIBS_line & scan）
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【パターン・ジェネレータ】 （レーザー描画装置・レーザー加工装置）
高速/高精細レーザー直接描画装置“VPG200/400” 【生産用途】
マスクレス・リソグラフィ装置 フラッグシップ・モデル“DWL2000/4000” 【生産・開発用途】
R&D用マスクレス・リソグラフィ装置 最上位モデル“DWL66+” 【研究・開発用途】
卓上型マスクレス・リソグラフィ装置“μPG501/μPG101” 【研究・開発用途】
【パルスレーザー】
パルスファイバーレーザーredENERGY G4
高繰返しLD励起パルス固体レーザー（IMPACTシリーズ）
【インプリント】
UV式mini ナノインプリント装置 EUN-4200
熱式miniインプリント装置 EHN-3250
【粒度分布計測】
レーザー回折式　粒度分布測定（乾式・湿式） HELOS&RODOS

【ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション例〉】
半導体分野 ／ 顕微鏡検査（採用例1） ／ 顕微鏡検査（採用例2）
顕微鏡アプリケーション向け製品 ／ ビームシャッター ／ 計量学 ／ オートフォーカス装置
ファイバー光スイッチ/マルチプレクサ
ピエゾ駆動光学マウント
ピエゾ駆動ステージ
NanoX 高速ポジショナ
スタックアクチュエータ

【Newport社 電動ステージ】
電動直進ステージ（自動直進ステージ）
電動回転ステージ（自動回転ステージ）
電動垂直ステージ（自動垂直ステージ）
ナノポジショニング・リニアステージ（ピエゾ駆動直進ステージ）
ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム