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製品詳細
(株)日本レーザー
SECOPTA社 LIBSシステム(ラボ用卓上タイプ)
2次元・3次元の組成マッピングが可能
ラボ用の卓上LIBSスキャンシステム
・特別な前処理なしで多元素の高速測定
・カメラ内蔵で実像と組成マップの重ね合わせ
・高い方位分解能
- (株)日本レーザー
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【所在地】〒169-0051東京都新宿区西早稲田2-14-1
【電話番号】03-5285-0861 【FAX番号】03-5285-0860
製品選定でお悩みの際は、日本レーザーまでご連絡ください。 03-5285-0861 |
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SECOPTA社の「FiberLIBS lab」LIBSスキャンシステムは、2次元または3次元の組成マッピングが可能な卓上サイズのラボ用ツールです。 微小に絞ったレーザースポットをXYZ軸ステージでスキャンすることでワークの組成マッピングを手軽に行えます。 材料研究や品質管理用途として最適です。 解析ソフトウェアは、アプリケーションに応じて様々なデータ処理方法や解析手法を提供。ケモメトリクス手法に基づく定量分析、ライブラリマッチングによる自動分類が行えます。試料分類においては自己学習機能(ニューラルネットワーク)も搭載しています。 |
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【金属】 ・合金の識別、組成分析 ・不純物の検出 ・腐食の深さ分析 【医薬】 ・薬剤中の不純物分析 ・錠剤の成分均一性チェック ・錠剤コーティング厚さ計測 【非金属】 ・セメント成分分析 ・コンクリートの劣化度合分析 ・ガラス中の不純物分析 【環境】 ・有害規制物質(Pb, Cd, Crなど)の検査 ・土壌の分析 ・表面コンタミの検出(クリーンルームや製造ラインなど) |
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◆日本レーザーの製品ラインナップ |
LIBS計測(レーザー誘起ブレークダウン分光)システム | |||||
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【パターン・ジェネレータ】 (レーザー描画装置・レーザー加工装置) | |
高速/高精細レーザー直接描画装置“VPG200/400” 【生産用途】 マスクレス・リソグラフィ装置 フラッグシップ・モデル“DWL2000/4000” 【生産・開発用途】 R&D用マスクレス・リソグラフィ装置 最上位モデル“DWL66+” 【研究・開発用途】 卓上型マスクレス・リソグラフィ装置“μPG501/μPG101” 【研究・開発用途】 |
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【パルスレーザー】 | |
パルスファイバーレーザーredENERGY G4 高繰返しLD励起パルス固体レーザー(IMPACTシリーズ) |
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【インプリント】 | |
UV式mini ナノインプリント装置 EUN-4200 熱式miniインプリント装置 EHN-3250 |
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【粒度分布計測】 | |
レーザー回折式 粒度分布測定(乾式・湿式) HELOS&RODOS |
【ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション例〉】 | |||||||||||||
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ファイバー光スイッチ/マルチプレクサ ピエゾ駆動光学マウント ピエゾ駆動ステージ NanoX 高速ポジショナ スタックアクチュエータ |
【Newport社 電動ステージ】 | |
電動直進ステージ(自動直進ステージ) 電動回転ステージ(自動回転ステージ) 電動垂直ステージ(自動垂直ステージ) ナノポジショニング・リニアステージ(ピエゾ駆動直進ステージ) ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム |
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