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（株）日本レーザー

ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈半導体分野〉

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その他 分散装置

ピエゾシステムイエナ社の光学機器
〈アプリケーション例〉

このセクションでは半導体分野におけるピエゾアプリケーションの概要と推奨システムについて記述します。Piezosystem jena製品はマスクアライメント、リソグラフィ、ナノメトロロジー、ウエハ検査、ウエハ位置決めに使用できます。

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（株）日本レーザー

【所在地】〒169-0051東京都新宿区西早稲田２－１４－１

【電話番号】03-5285-0861 【FAX番号】03-5285-0860

【URL】https://www.japanlaser.co.jp/

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ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション〉
－半導体分野－

アプリケーション	推奨システム
マスクアライメント（マスク合わせ）	X軸ステージ　PXシリーズ XY軸ステージ　PXYシリーズ XYZ軸ステージ　TRITOR シリーズ
リソグラフィ	フォーカスレンズポジショナ　MIPOSシリーズ Z軸ステージ　PZシリーズ X軸ステージ　PUシリーズ XYZ軸ステージ　TRITOR シリーズ
ナノ計測	フォーカスレンズポジショナ　MIPOSシリーズ XY軸ステージ　PXYシリーズ XYZ軸ステージ　TRITOR シリーズ Z軸ステージ　PZシリーズ nanoSXY 120 高速ピエゾポジショナ nanoSXY 400 高速ピエゾポジショナ
ウェハ検査	フォーカスレンズポジショナ　MIPOSシリーズ XY軸ステージ　PXYシリーズ XYZ軸ステージ　TRITOR シリーズ Z軸ステージ　PZシリーズ
ウェハ位置決め	X軸ステージ　PUシリーズ Z軸ステージ　PZシリーズ XY軸ステージ　PXYシリーズケース付きスタックアクチュエータ　PAシリーズ NanoX 高速ポジショナ

ウエハ検査システム内でのウエハの高精度ポジショニング

現在標準的なウエハ径は8インチです。業界全体ではより大きい径のウエハ製造へ移行しつつあります。このような背景において、ステルスダイシング、リソグラフィ、ドーピング、イオン注入、平坦化といった製造加工技術には、より大きな基板の高精度ポジショニングが不可欠です。薄膜技術では基板とストラクチャに厳しい要件が求められます。
Piezosystem jena社では新しいより大きなウエハの検査向けのポジショニングシステムを製造しています。このシステムは最大12インチ径のウエハのポジショニング用に設計されたもので、ウエハを精密に保持し、高い位置精度と繰返し精度が得られます。システムは自動インラインコントローラまたはスタンドアローンポジショナのいずれとしても使用できます。非常に高精度なポジショニングシステムですので、製造・加工管理の安定的な実行と、品質管理におけるサイクル時間の短縮を実現します。このPiezosystem jena社の新しいポジショニングシステムは、速度マイクロ秒単位、ミクロンレベルのステップ、再現性数ナノメートルを達成。この優れた性能により、有用性の高いデータを素早く獲得することが可能です。

◆主な特長

	●	測定範囲 < 300 µm
	●	精密で繰返し精度の高いステップ
	●	振動のない動作
	●	短い立上り時間
	●	ポジショニング制御

◆主な応用例

●	半導体及びソーラー関連製造	●	リソグラフィ
●	ディスプレイ製造	●	表面ストラクチャリング
●	表面検査	●	測定チップ
●	導体トラック測定	●	測定システム
●	品質管理	●	接合技術


	ステップ再現性 2nm


	PZ 250 CAP WL 高精度ウエハポジショニング装置。

ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション例〉


ビームシャッター	光ファイバ	ライフサイエンス（生命科学）

マテリアルサイエンス（物質科学）	機械工学	計量学

顕微鏡検査	ナノ位置決め	光学

半導体	バルブ技術	オートフォーカス装置（自動焦点装置）