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- 製品詳細
製品詳細
（株）日本レーザー
NanoX 高速ポジショナ
その他 分散装置 マーキング大荷重で最高精度のナノ／マイクロポジショニングを実現
最大10kgもの大荷重でも、高精度な高速ダイナミック・ナノ/マイクロポジショニングを実現。
複数のポジショナを組み合わせることも可能。
・2つのスタック・アクチュエータを組み合わせる双方向アクティブ法採用
・高精度、高い耐荷重で高速の動的用途に最適
- （株）日本レーザー
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【所在地】〒169-0051東京都新宿区西早稲田２－１４－１
【電話番号】03-5285-0861 【FAX番号】03-5285-0860
| 製品選定でお悩みの際は、日本レーザーまでご連絡ください。 03-5285-0861 |
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| nanoX シリーズは、大荷重のアプリケーションで、最高精度のナノ／マイクロポジショニングタスクを実現するピエゾ駆動ポジショニングステージです。 例えば nanoX 400 は、動的用途でも最大 10kg の荷重に耐えます。ステージに用いられているアクチュエータには、“双方向アクティブ法”というピエゾ・スタック技術を採用しており、1つのピエゾポジショナに別々に制御される2つのピエゾをスタックしています。この技術では、1つ目のピエゾアクチュエータが電圧シグナルで充電されると、2つ目のアクチュエータが放電されます。このユニークな技術で、ピエゾポジショナはセットとリセットの両方の力を生じることができ、ステージは動的環境下でも高い荷重を可動できます。 標準タイプの nanoX と、小型の nanoSX があります。nanoSX は他の nanoSX と組み合わせることで、ナノレベルの高い精度を損なうことなく、1.6mm までのロングトラベルシステムを構築できます。 |
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| 多層セラミックアクチュエータ（SMCA）は引張力を発生することはできないため、ピエゾ駆動ナノポジショニング・アクチュエータではに、そのストローク方向によって、種類の異なる動作を利用します。押す力は、アクティブに制御されたSMCAで発生される大きな力によって決定されます。一方引張力は、パッシブに動作する湾曲ヒンジの弱いバネが戻る力を利用します。これら押す力と引張力の比は、最大で 10 にもなります。力学的性能、負荷容量、ナノポジショニング・アセンブリ全体の堅牢性は、弱い力しか発生できない方向の動作によって制限されることになります。 piezosystem jena 社の新しい洗練されたギアデザインでは、双方向アクティブ法を採用しています。これにより押す力／引張力の比を最高で 1:1 までにしています（軌道への影響無し）。ナノポジショニングステージにおけるどちらのストローク・ベクトルも、SMCAで発生する高い圧縮力によって制御しています。 |
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（採用例）ウエハ検査システム内でのウエハの高精度ポジショニング | ||
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（採用例）赤外波長での走査型近接場光学顕微鏡 | ||
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（採用例）ピエゾシステムスキャナを用いたナノライフAFM システム | ||
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顕微鏡アプリケーション向け製品 |
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| ビームシャッター | 光ファイバ | ライフサイエンス （生命科学） |
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| マテリアルサイエンス （物質科学） |
機械工学 | 計量学 |
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| 顕微鏡検査 | ナノ位置決め | 光学 |
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| 半導体 | バルブ技術 | オートフォーカス装置 （自動焦点装置） |
| ◆日本レーザーの製品ラインナップ |
| piezosystem jena 社の光学機器 | |||||
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