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（株）日本レーザー

UV式mini ナノインプリント装置 EUN-4200

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その他

小型UV式インプリント実験装置

・小型卓上装置
・UVインプリントの入門機

・4インチ金型まで対応
・フィルムも転写可能
・平行度調整機構（オプション）

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（株）日本レーザー

【所在地】〒169-0051東京都新宿区西早稲田２－１４－１

【電話番号】03-5285-0861 【FAX番号】03-5285-0860

【URL】https://www.japanlaser.co.jp/

主な機能と仕様
ワーク 樹脂フィルムシート、ガラス、樹脂基板
最大100mm×100mmまで
スタンパ 石英 50mm×50mmまで
金属 100mm×100mm
上ヘッド UV光源 波長375nm＋/-5nm（光陵固定） 高輝度UV-LED　100個
連続照射（紫外線強度2.57mW/cm2）
石英天版 融解石英
押圧機構 エアシリンダー
転写力 400N （約40kgf）
圧力調整 シリンダーのエア圧を精密レギュレーターで調整（0.04~0.4Mpa）
速度調整 上下速度は個別のスピードコントロールボリュームにて可変
下ヘッド 固定式　吸着溝無しワークテーブル
安全機能 全面扉を開くと押圧禁止インターロック完備
UV波長カットカバー使用
装置寸法 W222mm×D222×H436mm
重量 約15kg
ユーティリティー AC100V　50/60Hzとドライエア0.4Mpa
オプション 平行調整機能（分解能=1μm程度）
吸着溝付ワークテーブル（平面度2μm以下、鏡面仕上げ）

◆日本レーザーの製品ラインナップ
インプリント装置
大面積対応ナノインプリント装置
“UV Roller Press Scan®シリーズ”
UVローラー・プレス・スキャン®方式により
小型軽量な装置で大面積インプリントを実現
・小型・軽量・シンプルな装置構造
・ハイスループット＆低コスト
・気泡の混入を抑制した精密転写
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静電式液材塗布/描画装置
“Q-jetシリーズ”
静電吸引力で液体材料を吐出。高粘度材の吐出や極微量吐出を実現
・高粘度材対応 ~10,000cps
・極微量吐出 100フェムト・リットル以下
・多様な吐出モード
・吐出状況の観察機能
・マルチ・ノズルにも対応
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UV式mini ナノインプリント装置 EUN-4200
小型UV式インプリント実験装置
・小型卓上装置
・UVインプリントの入門機
・4インチ金型まで対応
・フィルムも転写可能
・平行度調整機構（オプション）
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熱式miniインプリント装置 EHN-3250
小型熱式インプリント実験装置
・小型卓上装置
・熱インプリントの入門機
・最大350℃高精度ホットプレート搭載
・6インチワーク対応
・強制水冷対応
・簡単操作
＞詳細はこちら
＞ その他、用途に合わせた製品を取り揃えております。

【パルスレーザー】
パルスファイバーレーザーredENERGY G4
高繰返しLD励起パルス固体レーザー（IMPACTシリーズ）
【パターン・ジェネレータ】
R&D用マスクレス・リソグラフィ装置 最上位モデル“DWL66+”
マスクレス・リソグラフィ装置 フラッグシップ・モデル“DWL2000/4000”
高速/高精細レーザー直接描画装置“VPG200/400”
卓上型マスクレス・リソグラフィ装置“μPG501/μPG101”
【粒度分布計測】
レーザー回折式 粒度分布測定（乾式・湿式） HELOS&RODOS

【ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション例〉】
半導体分野 ／ 顕微鏡検査（採用例1） ／ 顕微鏡検査（採用例2）
顕微鏡アプリケーション向け製品 ／ ビームシャッター ／ 計量学 ／ オートフォーカス装置
ファイバー光スイッチ/マルチプレクサ
ピエゾ駆動光学マウント
ピエゾ駆動ステージ
NanoX 高速ポジショナ
スタックアクチュエータ

【SECOPTA社 LIBSシステム】
SECOPTA社 LIBSシステム（インライン向け）
SECOPTA社 LIBSシステム（ラボ用卓上タイプ）
SECOPTA社 LIBSシステム（超高速インライン向け）

【Newport社 電動ステージ】
電動直進ステージ（自動直進ステージ）
電動回転ステージ（自動回転ステージ）
電動垂直ステージ（自動垂直ステージ）
ナノポジショニング・リニアステージ（ピエゾ駆動直進ステージ）
ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム