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  • 厚み計測 CHRocodile IT

    測定周波数4KHzの高サンプリング 干渉原理使用 光源:SLDを使用 品質管理及びインラインモニタリングに 1つのプローブで非接触にて厚み計測可能 システム統合も可能 各種インターフェイス用意しPCに取込が容易(RS232、USB、analog output等) 測定レンジ:10μm-1mm 左記より薄膜にも対応可能です 精度:0.3μm

    プレシテック・ジャパン(株)

  • 厚み計測 CHRocodile IT

    測定周波数4KHzの高サンプリング 干渉原理使用 光源:SLDを使用 品質管理及びインラインモニタリングに 1つのプローブで非接触にて厚み計測可能 システム統合も可能 各種インターフェイス用意しPCに取込が容易(RS232、USB、analog output等) 測定レンジ:10μm-1mm 左記より薄膜にも対応可能です 精度:0.3μm

    プレシテック・ジャパン(株)

  • 厚み計測 CHRocodile IT

    測定周波数4KHzの高サンプリング 干渉原理使用 光源:SLDを使用 品質管理及びインラインモニタリングに 1つのプローブで非接触にて厚み計測可能 システム統合も可能 各種インターフェイス用意しPCに取込が容易(RS232、USB、analog output等) 測定レンジ:10μm-1mm 左記より薄膜にも対応可能です 精度:0.3μm

    プレシテック・ジャパン(株)

  • 厚み計測 CHRocodile IT

    測定周波数4KHzの高サンプリング 干渉原理使用 光源:SLDを使用 品質管理及びインラインモニタリングに 1つのプローブで非接触にて厚み計測可能 システム統合も可能 各種インターフェイス用意しPCに取込が容易(RS232、USB、analog output等) 測定レンジ:10μm-1mm 左記より薄膜にも対応可能です 精度:0.3μm

    プレシテック・ジャパン(株)

  • 厚み計測 CHRocodile IT

    測定周波数4KHzの高サンプリング 干渉原理使用 光源:SLDを使用 品質管理及びインラインモニタリングに 1つのプローブで非接触にて厚み計測可能 システム統合も可能 各種インターフェイス用意しPCに取込が容易(RS232、USB、analog output等) 測定レンジ:10μm-1mm 左記より薄膜にも対応可能です 精度:0.3μm

    プレシテック・ジャパン(株)

  • 厚み計測 CHRocodile IT

    測定周波数4KHzの高サンプリング 干渉原理使用 光源:SLDを使用 品質管理及びインラインモニタリングに 1つのプローブで非接触にて厚み計測可能 システム統合も可能 各種インターフェイス用意しPCに取込が容易(RS232、USB、analog output等) 測定レンジ:10μm-1mm 左記より薄膜にも対応可能です 精度:0.3μm

    プレシテック・ジャパン(株)

  • 厚み計測 CHRocodile IT

    測定周波数4KHzの高サンプリング 干渉原理使用 光源:SLDを使用 品質管理及びインラインモニタリングに 1つのプローブで非接触にて厚み計測可能 システム統合も可能 各種インターフェイス用意しPCに取込が容易(RS232、USB、analog output等) 測定レンジ:10μm-1mm 左記より薄膜にも対応可能です 精度:0.3μm

    プレシテック・ジャパン(株)

  • 厚み計測 CHRocodile IT

    測定周波数4KHzの高サンプリング 干渉原理使用 光源:SLDを使用 品質管理及びインラインモニタリングに 1つのプローブで非接触にて厚み計測可能 システム統合も可能 各種インターフェイス用意しPCに取込が容易(RS232、USB、analog output等) 測定レンジ:10μm-1mm 左記より薄膜にも対応可能です 精度:0.3μm

    プレシテック・ジャパン(株)

  • 厚み計測 CHRocodile IT

    測定周波数4KHzの高サンプリング 干渉原理使用 光源:SLDを使用 品質管理及びインラインモニタリングに 1つのプローブで非接触にて厚み計測可能 システム統合も可能 各種インターフェイス用意しPCに取込が容易(RS232、USB、analog output等) 測定レンジ:10μm-1mm 左記より薄膜にも対応可能です 精度:0.3μm

    プレシテック・ジャパン(株)

  • 厚み計測 CHRocodile IT

    測定周波数4KHzの高サンプリング 干渉原理使用 光源:SLDを使用 品質管理及びインラインモニタリングに 1つのプローブで非接触にて厚み計測可能 システム統合も可能 各種インターフェイス用意しPCに取込が容易(RS232、USB、analog output等) 測定レンジ:10μm-1mm 左記より薄膜にも対応可能です 精度:0.3μm

    プレシテック・ジャパン(株)

  • 厚み計測 CHRocodile IT

    測定周波数4KHzの高サンプリング 干渉原理使用 光源:SLDを使用 品質管理及びインラインモニタリングに 1つのプローブで非接触にて厚み計測可能 システム統合も可能 各種インターフェイス用意しPCに取込が容易(RS232、USB、analog output等) 測定レンジ:10μm-1mm 左記より薄膜にも対応可能です 精度:0.3μm

    プレシテック・ジャパン(株)

  • 厚み計測 CHRocodile IT

    測定周波数4KHzの高サンプリング 干渉原理使用 光源:SLDを使用 品質管理及びインラインモニタリングに 1つのプローブで非接触にて厚み計測可能 システム統合も可能 各種インターフェイス用意しPCに取込が容易(RS232、USB、analog output等) 測定レンジ:10μm-1mm 左記より薄膜にも対応可能です 精度:0.3μm

    プレシテック・ジャパン(株)

  • 厚み計測 CHRocodile IT

    測定周波数4KHzの高サンプリング 干渉原理使用 光源:SLDを使用 品質管理及びインラインモニタリングに 1つのプローブで非接触にて厚み計測可能 システム統合も可能 各種インターフェイス用意しPCに取込が容易(RS232、USB、analog output等) 測定レンジ:10μm-1mm 左記より薄膜にも対応可能です 精度:0.3μm

    プレシテック・ジャパン(株)

  • 厚み計測 CHRocodile IT

    測定周波数4KHzの高サンプリング 干渉原理使用 光源:SLDを使用 品質管理及びインラインモニタリングに 1つのプローブで非接触にて厚み計測可能 システム統合も可能 各種インターフェイス用意しPCに取込が容易(RS232、USB、analog output等) 測定レンジ:10μm-1mm 左記より薄膜にも対応可能です 精度:0.3μm

    プレシテック・ジャパン(株)

  • 紫外線照射装置 TX2000

    強力な紫外線をパルスで発光し、瞬時の硬化が可能 電源投入後の立ち上がりが早く、即時に稼働が可能(1秒以下) 大幅な消費電力の低減に貢献(従来ランプの1/5以下) 外部からの通信でランプ電圧や発光周波数を容易に制御可能 被照射体の熱変形や熱変質のダメージを抑制 各部装置と組合せ、完成度の高い自動システムが構築可能 専用照度モニター(TX100PM)で同期して照度を観測可能

    (株)タクト

  • 紫外線照射装置 TX2000

    強力な紫外線をパルスで発光し、瞬時の硬化が可能 電源投入後の立ち上がりが早く、即時に稼働が可能(1秒以下) 大幅な消費電力の低減に貢献(従来ランプの1/5以下) 外部からの通信でランプ電圧や発光周波数を容易に制御可能 被照射体の熱変形や熱変質のダメージを抑制 各部装置と組合せ、完成度の高い自動システムが構築可能 専用照度モニター(TX100PM)で同期して照度を観測可能

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  • 紫外線照射装置 TX2000

    強力な紫外線をパルスで発光し、瞬時の硬化が可能 電源投入後の立ち上がりが早く、即時に稼働が可能(1秒以下) 大幅な消費電力の低減に貢献(従来ランプの1/5以下) 外部からの通信でランプ電圧や発光周波数を容易に制御可能 被照射体の熱変形や熱変質のダメージを抑制 各部装置と組合せ、完成度の高い自動システムが構築可能 専用照度モニター(TX100PM)で同期して照度を観測可能

    (株)タクト

  • 紫外線照射装置 TX2000

    強力な紫外線をパルスで発光し、瞬時の硬化が可能 電源投入後の立ち上がりが早く、即時に稼働が可能(1秒以下) 大幅な消費電力の低減に貢献(従来ランプの1/5以下) 外部からの通信でランプ電圧や発光周波数を容易に制御可能 被照射体の熱変形や熱変質のダメージを抑制 各部装置と組合せ、完成度の高い自動システムが構築可能 専用照度モニター(TX100PM)で同期して照度を観測可能

    (株)タクト

  • 紫外線照射装置 TX2000

    強力な紫外線をパルスで発光し、瞬時の硬化が可能 電源投入後の立ち上がりが早く、即時に稼働が可能(1秒以下) 大幅な消費電力の低減に貢献(従来ランプの1/5以下) 外部からの通信でランプ電圧や発光周波数を容易に制御可能 被照射体の熱変形や熱変質のダメージを抑制 各部装置と組合せ、完成度の高い自動システムが構築可能 専用照度モニター(TX100PM)で同期して照度を観測可能

    (株)タクト

  • 紫外線照射装置 TX2000

    強力な紫外線をパルスで発光し、瞬時の硬化が可能 電源投入後の立ち上がりが早く、即時に稼働が可能(1秒以下) 大幅な消費電力の低減に貢献(従来ランプの1/5以下) 外部からの通信でランプ電圧や発光周波数を容易に制御可能 被照射体の熱変形や熱変質のダメージを抑制 各部装置と組合せ、完成度の高い自動システムが構築可能 専用照度モニター(TX100PM)で同期して照度を観測可能

    (株)タクト