イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

イソラストは半導体製造工程で求められる耐候低温性（-25℃～+325℃）、耐薬・耐ガス性、耐プラズマ性、真空シール性、非固着性に応える為、開発された高性能パーフロロエラストマーシールです。メンテナンス感覚の長期化とシール問題発生リスクの低減によるメンテナンスコストの大幅低減、シール交換コストの低減と生産性の向上、シールの統一化に伴うコスト低減を可能にします。

鉛フリーには並行処理が必須　「考えてからハンダ付けでなく、考えながらハンダ付けへ」

鉛フリーには並行処理が必須　「考えてからハンダ付けでなく、考えながらハンダ付けへ」

抜群のクッション性　均一な厚み精度　表面は20μの特殊エンボス加工　長尺品が可能、微細打ち抜き品が可能　耐熱、耐寒性、耐老化性、弾性回復性　標準品は在庫即納、特注品も生産可能

抜群のクッション性　均一な厚み精度　表面は20μの特殊エンボス加工　長尺品が可能、微細打ち抜き品が可能　耐熱、耐寒性、耐老化性、弾性回復性　標準品は在庫即納、特注品も生産可能