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超薄型・小型XYθ(アライメント)ステージ 他
Xyθステージ登場 高剛性・高精度を維持し、積み重ねでは実現できない超薄型(高さ35mm)、小型(100mm×100mm)のコンパクトボディのXyθ(アライメント)ステージ 高さ35mmの超薄型シンプル構造と高剛性の両立~積み重ね方式のXyθステージでは不可能とされる薄さを実現。 100mm×100mmの高精度アライメントステージ~小型ながら繰返し精度±1μmを達成。 旋回中心自由設定 最大寸法2300mm角(高さ200mm)まで対応 3軸駆動方式の弱点だったX軸方向の横剛性を4倍に、アライメント時間
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超薄型・小型XYθ(アライメント)ステージ 他
Xyθステージ登場 高剛性・高精度を維持し、積み重ねでは実現できない超薄型(高さ35mm)、小型(100mm×100mm)のコンパクトボディのXyθ(アライメント)ステージ 高さ35mmの超薄型シンプル構造と高剛性の両立~積み重ね方式のXyθステージでは不可能とされる薄さを実現。 100mm×100mmの高精度アライメントステージ~小型ながら繰返し精度±1μmを達成。 旋回中心自由設定 最大寸法2300mm角(高さ200mm)まで対応 3軸駆動方式の弱点だったX軸方向の横剛性を4倍に、アライメント時間
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超薄型・小型XYθ(アライメント)ステージ 他
Xyθステージ登場 高剛性・高精度を維持し、積み重ねでは実現できない超薄型(高さ35mm)、小型(100mm×100mm)のコンパクトボディのXyθ(アライメント)ステージ 高さ35mmの超薄型シンプル構造と高剛性の両立~積み重ね方式のXyθステージでは不可能とされる薄さを実現。 100mm×100mmの高精度アライメントステージ~小型ながら繰返し精度±1μmを達成。 旋回中心自由設定 最大寸法2300mm角(高さ200mm)まで対応 3軸駆動方式の弱点だったX軸方向の横剛性を4倍に、アライメント時間
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超薄型・小型XYθ(アライメント)ステージ 他
Xyθステージ登場 高剛性・高精度を維持し、積み重ねでは実現できない超薄型(高さ35mm)、小型(100mm×100mm)のコンパクトボディのXyθ(アライメント)ステージ 高さ35mmの超薄型シンプル構造と高剛性の両立~積み重ね方式のXyθステージでは不可能とされる薄さを実現。 100mm×100mmの高精度アライメントステージ~小型ながら繰返し精度±1μmを達成。 旋回中心自由設定 最大寸法2300mm角(高さ200mm)まで対応 3軸駆動方式の弱点だったX軸方向の横剛性を4倍に、アライメント時間
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高透明性金属メッシュフィルム
当社の有するナノ粒子合成技術、塗布・成膜技術をベースに、特殊なスクリーン印刷成膜材料、短工程の製作技術を用いることで、導電部の線幅30μmを達成し、従来より2桁以上低抵抗のシート抵抗値(0.5Ω/□以下)、全光線透過率70%以上の高光透過性導電膜を開発いたしました。 パターン形状、ピッチ、バイアス角等、自由な設計によりモアレ干渉縞の発生/導電部表面(金属面)・裏面の黒色化処理により外光の反射をそれぞれ抑制できます。
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高透明性金属メッシュフィルム
当社の有するナノ粒子合成技術、塗布・成膜技術をベースに、特殊なスクリーン印刷成膜材料、短工程の製作技術を用いることで、導電部の線幅30μmを達成し、従来より2桁以上低抵抗のシート抵抗値(0.5Ω/□以下)、全光線透過率70%以上の高光透過性導電膜を開発いたしました。 パターン形状、ピッチ、バイアス角等、自由な設計によりモアレ干渉縞の発生/導電部表面(金属面)・裏面の黒色化処理により外光の反射をそれぞれ抑制できます。
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高透明性金属メッシュフィルム
当社の有するナノ粒子合成技術、塗布・成膜技術をベースに、特殊なスクリーン印刷成膜材料、短工程の製作技術を用いることで、導電部の線幅30μmを達成し、従来より2桁以上低抵抗のシート抵抗値(0.5Ω/□以下)、全光線透過率70%以上の高光透過性導電膜を開発いたしました。 パターン形状、ピッチ、バイアス角等、自由な設計によりモアレ干渉縞の発生/導電部表面(金属面)・裏面の黒色化処理により外光の反射をそれぞれ抑制できます。
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高透明性金属メッシュフィルム
当社の有するナノ粒子合成技術、塗布・成膜技術をベースに、特殊なスクリーン印刷成膜材料、短工程の製作技術を用いることで、導電部の線幅30μmを達成し、従来より2桁以上低抵抗のシート抵抗値(0.5Ω/□以下)、全光線透過率70%以上の高光透過性導電膜を開発いたしました。 パターン形状、ピッチ、バイアス角等、自由な設計によりモアレ干渉縞の発生/導電部表面(金属面)・裏面の黒色化処理により外光の反射をそれぞれ抑制できます。
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高透明性金属メッシュフィルム
当社の有するナノ粒子合成技術、塗布・成膜技術をベースに、特殊なスクリーン印刷成膜材料、短工程の製作技術を用いることで、導電部の線幅30μmを達成し、従来より2桁以上低抵抗のシート抵抗値(0.5Ω/□以下)、全光線透過率70%以上の高光透過性導電膜を開発いたしました。 パターン形状、ピッチ、バイアス角等、自由な設計によりモアレ干渉縞の発生/導電部表面(金属面)・裏面の黒色化処理により外光の反射をそれぞれ抑制できます。
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高透明性金属メッシュフィルム
当社の有するナノ粒子合成技術、塗布・成膜技術をベースに、特殊なスクリーン印刷成膜材料、短工程の製作技術を用いることで、導電部の線幅30μmを達成し、従来より2桁以上低抵抗のシート抵抗値(0.5Ω/□以下)、全光線透過率70%以上の高光透過性導電膜を開発いたしました。 パターン形状、ピッチ、バイアス角等、自由な設計によりモアレ干渉縞の発生/導電部表面(金属面)・裏面の黒色化処理により外光の反射をそれぞれ抑制できます。
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高透明性金属メッシュフィルム
当社の有するナノ粒子合成技術、塗布・成膜技術をベースに、特殊なスクリーン印刷成膜材料、短工程の製作技術を用いることで、導電部の線幅30μmを達成し、従来より2桁以上低抵抗のシート抵抗値(0.5Ω/□以下)、全光線透過率70%以上の高光透過性導電膜を開発いたしました。 パターン形状、ピッチ、バイアス角等、自由な設計によりモアレ干渉縞の発生/導電部表面(金属面)・裏面の黒色化処理により外光の反射をそれぞれ抑制できます。
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高透明性金属メッシュフィルム
当社の有するナノ粒子合成技術、塗布・成膜技術をベースに、特殊なスクリーン印刷成膜材料、短工程の製作技術を用いることで、導電部の線幅30μmを達成し、従来より2桁以上低抵抗のシート抵抗値(0.5Ω/□以下)、全光線透過率70%以上の高光透過性導電膜を開発いたしました。 パターン形状、ピッチ、バイアス角等、自由な設計によりモアレ干渉縞の発生/導電部表面(金属面)・裏面の黒色化処理により外光の反射をそれぞれ抑制できます。
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高透明性金属メッシュフィルム
当社の有するナノ粒子合成技術、塗布・成膜技術をベースに、特殊なスクリーン印刷成膜材料、短工程の製作技術を用いることで、導電部の線幅30μmを達成し、従来より2桁以上低抵抗のシート抵抗値(0.5Ω/□以下)、全光線透過率70%以上の高光透過性導電膜を開発いたしました。 パターン形状、ピッチ、バイアス角等、自由な設計によりモアレ干渉縞の発生/導電部表面(金属面)・裏面の黒色化処理により外光の反射をそれぞれ抑制できます。
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高透明性金属メッシュフィルム
当社の有するナノ粒子合成技術、塗布・成膜技術をベースに、特殊なスクリーン印刷成膜材料、短工程の製作技術を用いることで、導電部の線幅30μmを達成し、従来より2桁以上低抵抗のシート抵抗値(0.5Ω/□以下)、全光線透過率70%以上の高光透過性導電膜を開発いたしました。 パターン形状、ピッチ、バイアス角等、自由な設計によりモアレ干渉縞の発生/導電部表面(金属面)・裏面の黒色化処理により外光の反射をそれぞれ抑制できます。
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高透明性金属メッシュフィルム
当社の有するナノ粒子合成技術、塗布・成膜技術をベースに、特殊なスクリーン印刷成膜材料、短工程の製作技術を用いることで、導電部の線幅30μmを達成し、従来より2桁以上低抵抗のシート抵抗値(0.5Ω/□以下)、全光線透過率70%以上の高光透過性導電膜を開発いたしました。 パターン形状、ピッチ、バイアス角等、自由な設計によりモアレ干渉縞の発生/導電部表面(金属面)・裏面の黒色化処理により外光の反射をそれぞれ抑制できます。
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高透明性金属メッシュフィルム
当社の有するナノ粒子合成技術、塗布・成膜技術をベースに、特殊なスクリーン印刷成膜材料、短工程の製作技術を用いることで、導電部の線幅30μmを達成し、従来より2桁以上低抵抗のシート抵抗値(0.5Ω/□以下)、全光線透過率70%以上の高光透過性導電膜を開発いたしました。 パターン形状、ピッチ、バイアス角等、自由な設計によりモアレ干渉縞の発生/導電部表面(金属面)・裏面の黒色化処理により外光の反射をそれぞれ抑制できます。
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高透明性金属メッシュフィルム
当社の有するナノ粒子合成技術、塗布・成膜技術をベースに、特殊なスクリーン印刷成膜材料、短工程の製作技術を用いることで、導電部の線幅30μmを達成し、従来より2桁以上低抵抗のシート抵抗値(0.5Ω/□以下)、全光線透過率70%以上の高光透過性導電膜を開発いたしました。 パターン形状、ピッチ、バイアス角等、自由な設計によりモアレ干渉縞の発生/導電部表面(金属面)・裏面の黒色化処理により外光の反射をそれぞれ抑制できます。
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高透明性金属メッシュフィルム
当社の有するナノ粒子合成技術、塗布・成膜技術をベースに、特殊なスクリーン印刷成膜材料、短工程の製作技術を用いることで、導電部の線幅30μmを達成し、従来より2桁以上低抵抗のシート抵抗値(0.5Ω/□以下)、全光線透過率70%以上の高光透過性導電膜を開発いたしました。 パターン形状、ピッチ、バイアス角等、自由な設計によりモアレ干渉縞の発生/導電部表面(金属面)・裏面の黒色化処理により外光の反射をそれぞれ抑制できます。
