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イオンソース/露光型レーザーアブレーション
プラスチック、フィルムにSio2、Si3N4、ITOを常温で成膜実現! 開発から量産までの多種多様な成膜、エッチング、クリーニング及び表面改質に対応 イオンビームスパッタ及びイオンビームアシスト装置、イオンミリング装置に使用 ドラックデリバリー用コンパーネントのポリイミドのダイレクト1μmノズルアレイパターンを高速で実現! ホトリソ工程のスキップを実現 低コスト大量生産が可能 24時間フル生産 スキャニング、ステッパー、リール方式選択可能 マスクパターンを正確に転写してポリイミドダイレクトエッチングパタ
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イオンソース/露光型レーザーアブレーション
プラスチック、フィルムにSio2、Si3N4、ITOを常温で成膜実現! 開発から量産までの多種多様な成膜、エッチング、クリーニング及び表面改質に対応 イオンビームスパッタ及びイオンビームアシスト装置、イオンミリング装置に使用 ドラックデリバリー用コンパーネントのポリイミドのダイレクト1μmノズルアレイパターンを高速で実現! ホトリソ工程のスキップを実現 低コスト大量生産が可能 24時間フル生産 スキャニング、ステッパー、リール方式選択可能 マスクパターンを正確に転写してポリイミドダイレクトエッチングパタ
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イオンソース/露光型レーザーアブレーション
プラスチック、フィルムにSio2、Si3N4、ITOを常温で成膜実現! 開発から量産までの多種多様な成膜、エッチング、クリーニング及び表面改質に対応 イオンビームスパッタ及びイオンビームアシスト装置、イオンミリング装置に使用 ドラックデリバリー用コンパーネントのポリイミドのダイレクト1μmノズルアレイパターンを高速で実現! ホトリソ工程のスキップを実現 低コスト大量生産が可能 24時間フル生産 スキャニング、ステッパー、リール方式選択可能 マスクパターンを正確に転写してポリイミドダイレクトエッチングパタ
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イオンソース/露光型レーザーアブレーション
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イオンソース/露光型レーザーアブレーション
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イオンソース/露光型レーザーアブレーション
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イオンソース/露光型レーザーアブレーション
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プラスチック、フィルムにSio2、Si3N4、ITOを常温で成膜実現! 開発から量産までの多種多様な成膜、エッチング、クリーニング及び表面改質に対応 イオンビームスパッタ及びイオンビームアシスト装置、イオンミリング装置に使用 ドラックデリバリー用コンパーネントのポリイミドのダイレクト1μmノズルアレイパターンを高速で実現! ホトリソ工程のスキップを実現 低コスト大量生産が可能 24時間フル生産 スキャニング、ステッパー、リール方式選択可能 マスクパターンを正確に転写してポリイミドダイレクトエッチングパタ
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イオンソース/露光型レーザーアブレーション
プラスチック、フィルムにSio2、Si3N4、ITOを常温で成膜実現! 開発から量産までの多種多様な成膜、エッチング、クリーニング及び表面改質に対応 イオンビームスパッタ及びイオンビームアシスト装置、イオンミリング装置に使用 ドラックデリバリー用コンパーネントのポリイミドのダイレクト1μmノズルアレイパターンを高速で実現! ホトリソ工程のスキップを実現 低コスト大量生産が可能 24時間フル生産 スキャニング、ステッパー、リール方式選択可能 マスクパターンを正確に転写してポリイミドダイレクトエッチングパタ
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新規ノイズ抑制フィルム エルノス
薄い、軽い、高ノイズ抑制効果を実現したフィルムで、スペースに余裕のないデジタル携帯機器に最適です。 100μm厚でも、従来の磁性シートを凌ぐ近傍電波吸収率によりノイズを抑制します。
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新規ノイズ抑制フィルム エルノス
薄い、軽い、高ノイズ抑制効果を実現したフィルムで、スペースに余裕のないデジタル携帯機器に最適です。 100μm厚でも、従来の磁性シートを凌ぐ近傍電波吸収率によりノイズを抑制します。
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透明電磁波シールドシート フィルシールド
シールド性能:40dB以上(200MHz~1GHz) 透明性(全光線透過率):82.5%以上 耐久性(すべて500h以上を条件として)耐湿性:65℃-95%RH 耐寒性:-84℃ 耐熱性:100℃ 耐候性:サンシャインW 耐衝撃性:当社ポリカーボネート(PC)材料による優れた耐衝撃性 加工性:強靭な接着力と優れた加工性(曲げ加工防止) 光学特性:低リタデーションPC材料による光干渉縞防止 機能性付与:耐擦傷性向上、帯電防止性能、耐紫外線性能などの付与可能 各種ディスプレイの電磁波シールド 透明性が要求
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透明電磁波シールドシート フィルシールド
シールド性能:40dB以上(200MHz~1GHz) 透明性(全光線透過率):82.5%以上 耐久性(すべて500h以上を条件として)耐湿性:65℃-95%RH 耐寒性:-84℃ 耐熱性:100℃ 耐候性:サンシャインW 耐衝撃性:当社ポリカーボネート(PC)材料による優れた耐衝撃性 加工性:強靭な接着力と優れた加工性(曲げ加工防止) 光学特性:低リタデーションPC材料による光干渉縞防止 機能性付与:耐擦傷性向上、帯電防止性能、耐紫外線性能などの付与可能 各種ディスプレイの電磁波シールド 透明性が要求
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透明電磁波シールドシート フィルシールド
シールド性能:40dB以上(200MHz~1GHz) 透明性(全光線透過率):82.5%以上 耐久性(すべて500h以上を条件として)耐湿性:65℃-95%RH 耐寒性:-84℃ 耐熱性:100℃ 耐候性:サンシャインW 耐衝撃性:当社ポリカーボネート(PC)材料による優れた耐衝撃性 加工性:強靭な接着力と優れた加工性(曲げ加工防止) 光学特性:低リタデーションPC材料による光干渉縞防止 機能性付与:耐擦傷性向上、帯電防止性能、耐紫外線性能などの付与可能 各種ディスプレイの電磁波シールド 透明性が要求
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透明電磁波シールドシート フィルシールド
シールド性能:40dB以上(200MHz~1GHz) 透明性(全光線透過率):82.5%以上 耐久性(すべて500h以上を条件として)耐湿性:65℃-95%RH 耐寒性:-84℃ 耐熱性:100℃ 耐候性:サンシャインW 耐衝撃性:当社ポリカーボネート(PC)材料による優れた耐衝撃性 加工性:強靭な接着力と優れた加工性(曲げ加工防止) 光学特性:低リタデーションPC材料による光干渉縞防止 機能性付与:耐擦傷性向上、帯電防止性能、耐紫外線性能などの付与可能 各種ディスプレイの電磁波シールド 透明性が要求
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透明電磁波シールドシート フィルシールド
シールド性能:40dB以上(200MHz~1GHz) 透明性(全光線透過率):82.5%以上 耐久性(すべて500h以上を条件として)耐湿性:65℃-95%RH 耐寒性:-84℃ 耐熱性:100℃ 耐候性:サンシャインW 耐衝撃性:当社ポリカーボネート(PC)材料による優れた耐衝撃性 加工性:強靭な接着力と優れた加工性(曲げ加工防止) 光学特性:低リタデーションPC材料による光干渉縞防止 機能性付与:耐擦傷性向上、帯電防止性能、耐紫外線性能などの付与可能 各種ディスプレイの電磁波シールド 透明性が要求
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透明電磁波シールドシート フィルシールド
シールド性能:40dB以上(200MHz~1GHz) 透明性(全光線透過率):82.5%以上 耐久性(すべて500h以上を条件として)耐湿性:65℃-95%RH 耐寒性:-84℃ 耐熱性:100℃ 耐候性:サンシャインW 耐衝撃性:当社ポリカーボネート(PC)材料による優れた耐衝撃性 加工性:強靭な接着力と優れた加工性(曲げ加工防止) 光学特性:低リタデーションPC材料による光干渉縞防止 機能性付与:耐擦傷性向上、帯電防止性能、耐紫外線性能などの付与可能 各種ディスプレイの電磁波シールド 透明性が要求
