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製品詳細

株式会社テクノビジョン

【所在地】〒350-0165埼玉県比企郡川島町中山2078

【電話番号】049-299-1385 【FAX番号】049-299-1386

半導体製造プロセスの前工程において、使用する製品のご紹介

◆製品ラインナップ

汎用洗浄装置卓上タイプ TWC-200

企業のR&D、公共研究機関、大学、
小ロット生産用途に最適

マスク、ウェーハ、各種基板に対応
・ドラフトチャンバー機能搭載
・ワークサイズMAX.200×200。
またはφ200まで対応
・多彩な洗浄プロセスの設定

R&D、小ロット生産対応機種
200mm用カセットまで洗浄できる

精密洗浄を目的としたコンパクトな洗浄装置
ハイエンド、高付加価値製品の製造プロセスで用いられるウェハーカセット、キャリアー、ボックス等の精密洗浄を目的とした少量多品種生産用途のコンパクトな洗浄装置。

フォトマスクの精密両面スクラブ洗浄装置

蓄積された洗浄技術及び乾燥技術でマスクの高清浄化。
マスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。
蓄積された洗浄技術及び乾燥技術でマスクの高清浄化に大きく貢献。
スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した装置、4機種をご用意。

露光工程（コンタクト、プロキシミティー）の
経費を劇的に削減

マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去。
薬液洗浄→リンス→ソフトスクラブ洗浄→リンス→乾燥の全工程を自動化。
オペレーターはマスクを脱着するだけ。
フォトマスクのクリーン化で露光プロセスの品質向上と歩留り向上に大きく貢献いたします。

カセット to カセット
全自動マスク洗浄装置

1μｍ以上のパーティクルとレジスト残渣を完全除去環境に優しいマイルドな薬液の提供も含めて、従来のアセトンや硫酸過水等の危険な薬液からの解放を実現しました。

紫外線オゾン洗浄装置
ワーク表面も有機物汚染の除去に作用

複雑な機構を必要としない、シンプルなドライ洗浄装置。
紫外線オゾン洗浄装置は、ワーク表面の有機物汚染の除去及び、表面改質を行う。
ファイナル洗浄として威力を発揮。

インラインタイプの純水、
超純水加熱ヒーター

流体を汚染させる事無く瞬間加熱を行うヒーター。
加熱部に高純度石英を採用した超純水用（QHシリーズ）、加熱部にステンレス（SUS316－EP処理）を採用した不活性ガス／クリーンドライエアー用（SHシリーズ）をご用意。
装置組込み、既設ラインに組込み等インライン設置に最適。

◆テクノビジョンの製品ラインナップ

UV照射装置（LED光源仕様）

UVフィルム硬化装置／UV照射装置
LED光源仕様全自動UV硬化装置 UVC-200A
グリップリング

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