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生産対応モデルから、
卓上型のR&D向けモデルまで
最小描画サイズ0.5μmのフォトマスク生産対応モデルから、卓上型でお求めやすい価格のR&D向けモデルまで。ご用途に最適な装置をご提案

・サブ・ミクロンを実現する
 ラスタ・スキャン・ベースの描画方式
・グレー・スケール露光機能
・アライメント機能
・多様なデザイン・データ・フォーマットに対応
製品選定でお悩みの際は、日本レーザーまでご連絡ください。 03-5285-0861



パターン・ジェネレータ 製品ラインナップ


卓上型のμPG(マイクロ・ピー・ジー)シリーズ、高精細でグレイ・スケール露光機能を搭載可能なDWLシリーズ、そして高精細且つ高スループットのVPGシリーズをラインナップしています。

◆ラインナップ間の性能比較

用途 R&D用 生産
モデル μPG101 μPG501 DWL66+ DWL2000 DWL4000 VPG200 VPG400
描画エリア(mm□) 90 125 200 200 400 200 400
最少描画サイズ(μm) 0.9 1 0.6 0.5 0.75
描画速度@1μm(mm2/分) 5 50 39 170 1050 1200
グレー・スケール露光 トライアル用途 専門用途 未対応


デバイス試作の効率化から、高精細フォトマスクやインプリント・モールドのマスター製造、そして多品種少量生産のマスクレス化まで多様なニーズに対応します。




フォトマスク インプリント・モールドのマスター 多品種少量生産

◆特徴
サブ・ミクロンを実現するラスタ・スキャン・ベースの描画方式
ハイデルベルグ・インストルメンツ社はDWLシリーズの開発と長年の改良で培ったラスタ・スキャン描画方式をベースに、サブ・ミクロンに至る高精細かつスムースな描画品質を追求してきました。VPGシリーズでは高速化を図るため縮小投影式の技術も採用。従来培ったラスタ・スキャン技術の知見と融合し、高速かつ高い描画品質を達成しています。

グレー・スケール露光機能
本機能でビーム強度を変調させながら露光を行うことにより、現像時に露光ドーズ量に依存してフォトレジストの溶解レートが変わるため、レジスト表面にマイクロ・レンズ・アレイ等の高さ方向に寸法を有する3次元形状を形成することができます。

アライメント機能
装置には基板表面を観察/撮像するカメラ・システムと画像処理機能を搭載。基板表面のアライメント・マーク位置を検出することによって、既存のレイヤに新しいレイヤのパターンを重ね合わせて露光することができます。

多様なデザイン・データ・フォーマットに対応
パターンのデザイン・データはお使い慣れたCADでご用意ください。装置の制御系にはDXF, CIF, GDSII,Gerber,BMP等の多様なファイル・フォーマットに対応するデータ変換機能を装備しています。
※μPG101はDXF、CIFおよびGDSIIのみ対応

◆用途/分野
フォトマスク描画
直描
3D露光/厚膜露光

パターン・ジェネレータ 用途例はこちら


◆日本レーザーの製品ラインナップ
パターン・ジェネレータ/描画装置/露光装置
生産用途
高速/高精細レーザー直接描画装置
“VPG200/400”
マスクレスをお考えの生産ラインに最適
・描画速度:1,050mm2/分@1μm解像度, 10,000mm2/分@4μm解像度
・最少描画サイズ0.75μm
>詳細はこちら
生産・開発用途
マスクレス・リソグラフィ装置
フラッグシップ・モデル“DWL2000/4000”
高速で高精度なステージ・システム、
光学系、制御系
R&Dから生産用途までをカバー
•最少描画サイズ0.5μm
•自動基板搬送機構も搭載可能
>詳細はこちら
研究・開発用途
R&D用マスクレス・リソグラフィ装置
最上位モデル“DWL66+”
最少描画サイズ0.6μm。高精細な描画性能
多様な用途に対応可能
専門用途のグレイ・スケール露光機能の搭載
研究開発用途でフォトマスクの試作や直描を行うのに最適。
低価格かつ高精度なレーザー・リソグラフィシステム。
>詳細はこちら
研究用途
卓上型マスクレス・リソグラフィ装置
“μPG501/μPG101”
卓上型で簡単な操作性
お求めやすい価格ながら
サブ・ミクロンの解像度を実現
μPG501
・高精度&ハイスループット
・描画速度:50mm2/分
・最少描画サイズ1μm
μPG101
・最もお求めやすい価格帯
・最少描画サイズ0.9μm
>詳細はこちら

【パルスレーザー】
パルスファイバーレーザーredENERGY G4
高繰返しLD励起パルス固体レーザー(IMPACTシリーズ)
【インプリント】
UV式mini ナノインプリント装置 EUN-4200
熱式miniインプリント装置 EHN-3250
【粒度分布計測】
レーザー回折式 粒度分布測定(乾式・湿式) HELOS&RODOS

【ピエゾシステムイエナ社の光学機器〈アプリケーション例〉】
半導体分野 顕微鏡検査(採用例1) 顕微鏡検査(採用例2)
顕微鏡アプリケーション向け製品 ビームシャッター 計量学 オートフォーカス装置
ファイバー光スイッチ/マルチプレクサ
ピエゾ駆動光学マウント
ピエゾ駆動ステージ
NanoX 高速ポジショナ
スタックアクチュエータ

【SECOPTA社 LIBSシステム】
SECOPTA社 LIBSシステム(インライン向け)
SECOPTA社 LIBSシステム(ラボ用卓上タイプ)
SECOPTA社 LIBSシステム(超高速インライン向け)

【Newport社 電動ステージ】
電動直進ステージ(自動直進ステージ)
電動回転ステージ(自動回転ステージ)
電動垂直ステージ(自動垂直ステージ)
ナノポジショニング・リニアステージ(ピエゾ駆動直進ステージ)
ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム
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レーザー専門商社の草分けとして、1968...
主として海外製品の輸入販売を行っています。取扱製品を大きく分類すると、次のような製品・技術に分類することができます。 【レーザー】 海外から、多種類の最先端レーザー製品を輸入し、あらゆる業種・用途に適応できるように多彩な製品群を用意し、お客様の目...
光学測定
温度/湿度/密度/比重測定
検査機器
分析機器
その他理化学関連機器
温度
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工業用カメラ
レンズ
光源/照明
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計測/制御/分析/検査機器
超微細加工装置
評価/計測機器
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MEMS
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